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試料の準備は、次の点をお守りください。

測定試料

測定試料には必ず試料名をご記載ください。

薄膜

本測定では、薄膜表面の温度応答を、レーザ光を照射して、反射光の強度を測定することにより観測するため、薄膜表面が目視で鏡面であることが必要です。

金属薄膜

測定対象が非金属薄膜の場合には、加熱光および測温光に対して透光性があることが多いので、加熱面および測温面に金属薄膜を成膜いたします。金属薄膜は、Mo、Pt、Al、W等で、膜厚100nm程度になります。

基板

基板は石英ガラス、シリコン基板が適当です。特殊な基板の場合にはご相談ください。
基板の寸法は10mm×10mm～20mm×20mm、厚さは1mm程度が適当です。
裏面加熱／表面測温（RF）方式での測定の場合は、基板両面が光学研磨されている必要があります。

膜厚

裏面加熱／表面測温（RF）方式での測定の場合は、薄膜の膜厚についてはなるべく実測値をお知らせください。
熱拡散率の誤差は膜厚の誤差の2乗になります。

熱伝導率の算出

薄膜の熱伝導率を求める場合には、比熱容量および密度の値が必要です。 実測された熱拡散率（または熱浸透率）に薄膜と同一組成のバルク材料の比熱容量と密度を代用して、算出した推定値となります。 尚、熱拡散率が薄膜の結晶構造や微構造に敏感に異存して大きく変化するのに対して、比熱容量と密度は結晶構造や微構造にあまり依存しないため、緻密な薄膜であればバルクの値との差はそれほど大きくないことが一般的です。