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装置仕様

NanoTR

商品仕様

モデル名 NanoTR
測定方式 ナノ秒サーモリフレクタンス法
裏面加熱・表面測温(RF)
表面加熱・表面測温(FF)
時間分解能 0.5ns(ナノ秒)
測定試料膜厚(目安) RF方式の場合
 金属: 1μm~20μm
 セラミック: 300nm~5μm
 有機: 30nm~2μm など
FF方式の場合
 1μm~
基板 種類: 透明基板、不透明基板
寸法: 10×10mm~20×20mm
厚さ: 1mm 程度
測定項目 熱拡散率、熱浸透率、熱伝導率
界面熱抵抗
測定時間 60秒以下
オプション 高温測定: 室温~300℃
分布測定

設置仕様

室温 15~30℃
湿度 45%~70%
電源 AC100V(±10%)、50/60Hz、500VA
重量 40kg
PicoTR

商品仕様

モデル名 PicoTR
測定方式 ピコ秒サーモリフレクタンス法
裏面加熱・表面測温(RF)方式
表面加熱・表面測温(FF)方式
時間分解能 1ps(ピコ秒)
測定試料膜厚(目安) RF方式の場合
 金属: 100nm~900nm
 セラミック: 10nm~300nm
 有機: 10nm~100nm など
FF方式の場合
 100nm~
基板 種類: 透明基板、不透明基板
寸法: 10×10mm~20×20mm
厚さ: 1mm 程度
測定項目 熱拡散率、熱浸透率、熱伝導率
界面熱抵抗
測定時間 5分以下
オプション 高温測定: 室温~500℃
 

設置仕様

室温 15~30℃
湿度 45%~70%
電源 AC100V(±10%)、50/60Hz、500VA
重量 光学系ユニット 40kg
制御系ユニット 50kg

※仕様・外観は改良のため予告なく変更することがあります。